高周波プラズマ発生装置を用いて発生させた酸素プラズマアシストによる酸化物系I-III-VI族半導体の分子線エピタキシャル成長と薄膜の電気的・光学的評価の研究

（財）中国電力技術研究財団

その他補助金

米田　稔
大石正和
斎藤　博
上浦洋一
本田　亮