講演・口頭発表等

基本情報

氏名 中村 修
氏名(カナ) ナカムラ オサム
氏名(英語) Nakamura Osamu
所属 研究社会連携機構 研究社会連携センター
職名 教授
researchmap研究者コード B000300963
researchmap機関 岡山理科大学

タイトル

Fabrication of Sc and ScHx(x~2) thin films and their magnetotransport characteristics

講演者

M.Nishimagi, T.Matsunaga, M.Sakai, K.Iizasa, T.Sakuraba, K.Higuchi, A.Kitazawa, S.Hasegawa, O.Nakamura

会議名

The 18th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy - ICCGE-18 : Nagoya, Japan, August 7th - 12th, 2016.

開催年月日

2016/08

招待の有無

記述言語

英語

発表種類

学会講演(シンポジウム・セミナー含む)

会議区分

会議種別

ポスター発表

主催者

開催地

名古屋

URL

概要