論文

基本情報

氏名 中村 修
氏名(カナ) ナカムラ オサム
氏名(英語) Nakamura Osamu
所属 研究社会連携機構 研究社会連携センター
職名 教授
researchmap研究者コード B000300963
researchmap機関 岡山理科大学

題名

Annealing temperature dependence of Tc of thin-films Gd grown on a glass substrate.

単著・共著の別

著者

O.Nakamura, K.Baba, H.Ishii, T.Takeda

概要

Thin films of Gd were grown on a glass substrate with a sputtering technique. Measurements of x‐ray diffraction, magnetization, and electrical resistance were carried out for different samples that were annealed at various temperatures after the deposition. The depositedfilms are polycrystalline of hcp structure with preferred orientation, with the (100) plane parallel to the sample surface. The estimated Curie temperatureT C  of these films changes between 273 and 293 K, depending on the annealingtemperature. It is found that this variation of T C  is correlated with the relaxation of lattice imperfections.

Annealing temperature dependence of Tc of thin-films Gd grown on a glass substrate.

発表雑誌等の名称

Joural of Applied Physics

出版者

64

開始ページ

3614

終了ページ

発行又は発表の年月

1988/00

査読の有無

有り

招待の有無

無し

記述言語

英語

掲載種別

研究論文(学術雑誌)

ISSN

ID:DOI

ID:NAID(CiNiiのID)

ID:PMID

URL

JGlobalID

arXiv ID

ORCIDのPut Code

DBLP ID