中村　修（ﾅｶﾑﾗｵｻﾑ）｜論文

論文

基本情報

氏名	中村　修
氏名（カナ）	ﾅｶﾑﾗｵｻﾑ
氏名（英語）	Nakamura Osamu
所属	研究社会連携機構研究社会連携ｾﾝﾀｰ
職名	教授
researchmap研究者コード	B000300963
researchmap機関	岡山理科大学

題名

Fabrication of YH3 thin films using Pd/Ni co-capping layer

単著・共著の別

著者

K.Yabuki, H.Hirama, M.Sakai, Y.Saito, K.Higuchi, A.Kitajima, S.Hasegawa, O.Nakamura

概要



Fabrication of YH3 thin films using Pd/Ni co-capping layer

発表雑誌等の名称

Journal of Crystal Growth

出版者

巻

号

開始ページ

終了ページ

発行又は発表の年月

2017/06

査読の有無

有り

招待の有無

記述言語

英語

掲載種別

研究論文（学術雑誌）

ISSN

ID:DOI

ID:NAID(CiNiiのID)

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URL

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DBLP ID