論文

基本情報

氏名 中村 修
氏名(カナ) ナカムラ オサム
氏名(英語) Nakamura Osamu
所属 研究社会連携機構 研究社会連携センター
職名 教授
researchmap研究者コード B000300963
researchmap機関 岡山理科大学

題名

Low-temperature and low-H2 pressure synthesis of hydride semiconductor YH3-δ using Pd/Ni co-capped Y films

単著・共著の別

著者

K.Yabuki, H.Hirama, M.Sakai, Y.Saito, K.Higuchi, A.Kitajima, S.Hasegawa, O.Nakamura

概要



Low-temperature and low-H2 pressure synthesis of hydride semiconductor YH3-δ using Pd/Ni co-capped Y films

発表雑誌等の名称

Thin Solid Films

出版者

ELSEVER

624

開始ページ

175

終了ページ

180

発行又は発表の年月

2017/02

査読の有無

有り

招待の有無

無し

記述言語

英語

掲載種別

研究論文(学術雑誌)

ISSN

ID:DOI

ID:NAID(CiNiiのID)

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URL

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