論文

基本情報

氏名 中村 修
氏名(カナ) ナカムラ オサム
氏名(英語) Nakamura Osamu
所属 研究社会連携機構 研究社会連携センター
職名 教授
researchmap研究者コード B000300963
researchmap機関 岡山理科大学

題名

Low-temperature synthesis of hydride semiconductor YH3-δ using Pt capped Y films and its chemical thermodynamics analysis

単著・共著の別

著者

T. Sakai , M. Sakai, T. Kobayashi, M. Yasutake, S. Akisato,R. Mikami, N. Suganuma, Y. Nakajima, M. Tokuda, Y. Fujii, T. Hanajiri, O. Nakamura

概要



Low-temperature synthesis of hydride semiconductor YH3-δ using Pt capped Y films and its chemical thermodynamics analysis

発表雑誌等の名称

Thin Solid Films

出版者

 669

1

開始ページ

288

終了ページ

293

発行又は発表の年月

2019/01

査読の有無

有り

招待の有無

記述言語

英語

掲載種別

研究論文(学術雑誌)

ISSN

ID:DOI

ID:NAID(CiNiiのID)

ID:PMID

URL

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DBLP ID