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| 基本情報 |
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| 氏名 |
中谷 達行 |
| 氏名（カナ） |
ﾅｶﾀﾆ ﾀﾂﾕｷ |
| 氏名（英語） |
Nakatani Tatsuyuki |
| 所属 |
機構 研究社会連携機構 ﾌﾛﾝﾃｨｱ理工学研 |
| 職名 |
教授 |
| researchmap研究者コード |
B000236977 |
| researchmap機関 |
岡山理科大学 |
Influence of DC Substrate Bias Voltage on Deposition of Carbon Nanoparticles Produced by Ar+CH4 Multi-Hollow Discharge Plasma CVD method
Sung Hwa Hwang, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Jun Seok OH and Tatsuyuki Nakatani
XXXIV International Conference on Phenomena in Ionized Gases (XXXIV ICPIG) / The 10th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-10)
Sapporo Education and Culture Hall, Sapporo, Hokkaido, Japan
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