論文

基本情報

氏名 中谷 達行
氏名(カナ) ナカタニ タツユキ
氏名(英語) Nakatani Tatsuyuki
所属 研究社会連携機構 フロンティア理工学研
職名 教授
researchmap研究者コード B000236977
researchmap機関 岡山理科大学

題名

Deposition of hydrogen-containing tetrahedral amorphous carbon films by cathodic vacuum arc method

単著・共著の別

著者

KOUTATOU  SHIRAISHI,  TATSUYUKI NAKATANI  AND SHINSUKE  KUNITSUGU

概要


7th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 8th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science (ISPlasma2015 / IC-PLANTS2015)

発表雑誌等の名称

Proceedings of the 7th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials  (ISPlasma2015)

出版者

開始ページ

CD-ROM, D3-P-19

終了ページ

発行又は発表の年月

2015/03

査読の有無

招待の有無

記述言語

英語

掲載種別

研究論文(国際会議プロシーディングス)

ISSN

ID:DOI

ID:NAID(CiNiiのID)

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URL

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