論文

基本情報

氏名 中谷 達行
氏名(カナ) ナカタニ タツユキ
氏名(英語) Nakatani Tatsuyuki
所属 研究社会連携機構 フロンティア理工学研
職名 教授
researchmap研究者コード B000236977
researchmap機関 岡山理科大学

題名

 Influence of Bias Voltage on Substrate Current Density of DLC Films by High-Power Impulse Magnetron Sputtering Method

単著・共著の別

著者

概要



Hiroyuki Fukue, Tatsuyuki Nakatani, Tadayuki Okano and Masahide Kuroiwa

発表雑誌等の名称

Proceedings of the plasma conference 2017

出版者

開始ページ

24P-45-1

終了ページ

24P-45-2

発行又は発表の年月

2017/11

査読の有無

招待の有無

記述言語

英語

掲載種別

研究論文(国際会議プロシーディングス)

ISSN

ID:DOI

ID:NAID(CiNiiのID)

ID:PMID

URL

JGlobalID

arXiv ID

ORCIDのPut Code

DBLP ID