論文

基本情報

氏名 中谷 達行
氏名(カナ) ナカタニ タツユキ
氏名(英語) Nakatani Tatsuyuki
所属 研究社会連携機構 フロンティア理工学研
職名 教授
researchmap研究者コード B000236977
researchmap機関 岡山理科大学

題名

Substrate Bias Effects on Amorphous Carbon Film Deposition Process during Acetylene Plasma, Investigated with Infrared Spectroscopy

単著・共著の別

著者

Masanori Shinohara, Hiroki Kawazoe, Taka-aki Kawakami, Takanori Inayoshi, Yoshinobu Matsuda, Hiroshi Fujiyama, Yuki Nitta, and Tatsuyuki Nakatani

概要




発表雑誌等の名称

Transactions of the Materials Research Society of Japan

出版者

35

3

開始ページ

563

終了ページ

566

発行又は発表の年月

2010/00

査読の有無

有り

招待の有無

記述言語

英語

掲載種別

研究論文(学術雑誌)

ISSN

ID:DOI

ID:NAID(CiNiiのID)

ID:PMID

URL

JGlobalID

arXiv ID

ORCIDのPut Code

DBLP ID